“微信扫一扫”进入题库练习及模拟考试
下列关于集成电路布图设计、专利和著作权的独创性比较,说法错误的是()
A.集成电路布图设计的创造性水平高于专利创造性水平
B.著作权法的独创性标准低于专利法中有关创造性标准
C.集成电路布图设计的独创性要求高于著作权的独创性
D.集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性有差异
参考答案:A
解析:
本题考查集成电路布图设计及其保护概述。
集成电路布图设计权中的独创性与著作权的独创性、专利的创造性有差异。D选项正确。
集成电路布图设计的创造性水平比著作权的独创性高,比专利创造性水平低。BC选项正确,A选项错误。
故本题选择A选项。
【思路点拨】创造性:专利>集成电路布图设计>著作权